Al、Cu、高熔點金屬 是單晶圓多室兼容平臺,在金屬布線工藝上有很多成就。通過將 SIS(自離子濺射)-PVD、金屬 CVD/ALD 和用于下一代工藝的 DRY 預處理模塊相結合,實現了*佳的性價比。
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